Fizikos terminų žodynas : lietuvių, anglų, prancūzų, vokiečių ir rusų kalbomis. – Vilnius : Mokslo ir enciklopedijų leidybos institutas. Vilius Palenskis, Vytautas Valiukėnas, Valerijonas Žalkauskas, Pranas Juozas Žilinskas. 2007.
nettoyage par bombardement ionique — joninis valymas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. ionic cleaning vok. Abglimmen, n; Glimmreinigung, f; Reinigung durch Ionenbeschuß, f rus. ионная очистка, f pranc. nettoyage par bombardement ionique, m … Radioelektronikos terminų žodynas
bombardement — [ bɔ̃bardəmɑ̃ ] n. m. • 1697; de bombarde (I) 1 ♦ Action de bombarder, de lancer des bombes ou des obus. Le bombardement d une ville par l aviation ennemie. Bombardement naval, aéronaval, aérien. Avion de bombardement. ⇒ bombardier. Bombardement… … Encyclopédie Universelle
THERMO-IONIQUE (ÉMISSION) — L’émission thermo ionique telle qu’elle est comprise aujourd’hui est une branche de la physique qui traite des divers phénomènes liés à l’éjection d’électrons d’un corps solide chauffé à une température suffisamment élevée. On substitue… … Encyclopédie Universelle
Gravure Ionique Réactive — La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une technique similaire, dans la mise … Wikipédia en Français
Gravure ionique reactive — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Gravure ionique réactive — La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une technique similaire, dans la mise … Wikipédia en Français
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma — Equipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d un état gazeux… … Wikipédia en Français
MÉTALLOGRAPHIE - Macrographie et micrographie optiques — C’est dans la seconde moitié du XIXe siècle que le microscope optique a commencé à être utilisé pour examiner les structures des produits métallurgiques. Anasoff, en 1841, puis Henry Clifton Sorby, en 1864, furent les pionniers de cette technique … Encyclopédie Universelle
SURFACES (ANALYSE DES) — La notion de surface de séparation de deux milieux matériels est généralement perçue directement et, a priori, ne semble pas devoir donner lieu à beaucoup de discussions quant à sa définition. Que ce soit en physique ou en chimie, l’intérêt pour… … Encyclopédie Universelle
TUBES ÉLECTRONIQUES — Les tubes électroniques sont des composants qui entrent dans la constitution de matériels électroniques très divers (émetteurs de radiodiffusion; émetteurs, récepteurs, caméras de télévision; équipements de télécommunications; radars; contre… … Encyclopédie Universelle
